平面研磨的运动轨迹及原

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验

2017年9月7日  摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的

行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 豆丁网

2015年4月16日  摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理从节点、节圆入手,将复杂的 研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术

针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验

研磨工艺百度百科

直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。 螺旋形研磨运动轨迹，能获得较低的 表面粗糙度 和较高的平面度，主要适用于研磨圆片或圆柱形工件的端面。

研磨机研磨运动轨迹分析 百度文库

研磨是一种精整和光整加工方法 。 它是利用附着 和压嵌在研具表面上 的游离磨料磨粒 ，借助于研具与 工件 在一定 压力下 的相对运动 ，从工件表面上去除极 小的切屑 ，以使工件获得较 高的尺 寸精度和几何形状 精度及极低 的表面粗糙度值的表面。 在平面

研磨加工的运动特点及其运动轨迹 百度文库

研磨时，研具与工件之间的相对运动，称为研磨运动。 在研磨运动中，研具（或工件）上的某一点在工件（或研具）表面上所走过的路线，就是研磨运动的轨迹。 研磨时选用不同的运动轨迹能使工件表面各处都受到均匀的研削。 因此选择研磨运动轨迹应满足

平面研磨轨迹的研究 百度文库

研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受强制的机构控制，以便于保证工件的几何形状精度。

偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

2018年5月12日  摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著，而偏摆角速度（取到非特殊值时）对轨迹非均匀性影响很小。

机械科学与技术

建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。

平面研磨的运动模型 百度学术

平面研磨的运动模型 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数对研磨运动轨迹形状的影响,根据研磨运动学分析,对研磨机设计提出了一些设想

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验

2017年9月7日  摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的

行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 豆丁网

2015年4月16日  摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理从节点、节圆入手,将复杂的 研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术

针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验

研磨工艺百度百科

直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。 螺旋形研磨运动轨迹，能获得较低的 表面粗糙度 和较高的平面度，主要适用于研磨圆片或圆柱形工件的端面。

研磨机研磨运动轨迹分析 百度文库

研磨是一种精整和光整加工方法 。 它是利用附着 和压嵌在研具表面上 的游离磨料磨粒 ，借助于研具与 工件 在一定 压力下 的相对运动 ，从工件表面上去除极 小的切屑 ，以使工件获得较 高的尺 寸精度和几何形状 精度及极低 的表面粗糙度值的表面。 在平面

研磨加工的运动特点及其运动轨迹 百度文库

研磨时，研具与工件之间的相对运动，称为研磨运动。 在研磨运动中，研具（或工件）上的某一点在工件（或研具）表面上所走过的路线，就是研磨运动的轨迹。 研磨时选用不同的运动轨迹能使工件表面各处都受到均匀的研削。 因此选择研磨运动轨迹应满足

平面研磨轨迹的研究 百度文库

研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受强制的机构控制，以便于保证工件的几何形状精度。

偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

2018年5月12日  摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著，而偏摆角速度（取到非特殊值时）对轨迹非均匀性影响很小。

机械科学与技术

建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。

平面研磨的运动模型 百度学术

平面研磨的运动模型 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数对研磨运动轨迹形状的影响,根据研磨运动学分析,对研磨机设计提出了一些设想

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验

2017年9月7日  摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的

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2015年4月16日  摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理从节点、节圆入手,将复杂的 研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术

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研磨工艺百度百科

直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。 螺旋形研磨运动轨迹，能获得较低的 表面粗糙度 和较高的平面度，主要适用于研磨圆片或圆柱形工件的端面。

研磨机研磨运动轨迹分析 百度文库

研磨是一种精整和光整加工方法 。 它是利用附着 和压嵌在研具表面上 的游离磨料磨粒 ，借助于研具与 工件 在一定 压力下 的相对运动 ，从工件表面上去除极 小的切屑 ，以使工件获得较 高的尺 寸精度和几何形状 精度及极低 的表面粗糙度值的表面。 在平面

研磨加工的运动特点及其运动轨迹 百度文库

研磨时，研具与工件之间的相对运动，称为研磨运动。 在研磨运动中，研具（或工件）上的某一点在工件（或研具）表面上所走过的路线，就是研磨运动的轨迹。 研磨时选用不同的运动轨迹能使工件表面各处都受到均匀的研削。 因此选择研磨运动轨迹应满足

平面研磨轨迹的研究 百度文库

研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受强制的机构控制，以便于保证工件的几何形状精度。

偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

2018年5月12日  摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著，而偏摆角速度（取到非特殊值时）对轨迹非均匀性影响很小。

机械科学与技术

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平面研磨的运动模型 百度学术

平面研磨的运动模型 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数对研磨运动轨迹形状的影响,根据研磨运动学分析,对研磨机设计提出了一些设想

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验

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2015年4月16日  摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理从节点、节圆入手,将复杂的 研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术

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直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。 螺旋形研磨运动轨迹，能获得较低的 表面粗糙度 和较高的平面度，主要适用于研磨圆片或圆柱形工件的端面。

研磨机研磨运动轨迹分析 百度文库

研磨是一种精整和光整加工方法 。 它是利用附着 和压嵌在研具表面上 的游离磨料磨粒 ，借助于研具与 工件 在一定 压力下 的相对运动 ，从工件表面上去除极 小的切屑 ，以使工件获得较 高的尺 寸精度和几何形状 精度及极低 的表面粗糙度值的表面。 在平面

研磨加工的运动特点及其运动轨迹 百度文库

研磨时，研具与工件之间的相对运动，称为研磨运动。 在研磨运动中，研具（或工件）上的某一点在工件（或研具）表面上所走过的路线，就是研磨运动的轨迹。 研磨时选用不同的运动轨迹能使工件表面各处都受到均匀的研削。 因此选择研磨运动轨迹应满足

平面研磨轨迹的研究 百度文库

研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受强制的机构控制，以便于保证工件的几何形状精度。

偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

2018年5月12日  摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著，而偏摆角速度（取到非特殊值时）对轨迹非均匀性影响很小。

机械科学与技术

建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。

平面研磨的运动模型 百度学术

平面研磨的运动模型 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数对研磨运动轨迹形状的影响,根据研磨运动学分析,对研磨机设计提出了一些设想

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验

2017年9月7日  摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的

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2015年4月16日  摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理从节点、节圆入手,将复杂的 研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,

XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术

针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验

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直线摆动研磨运动轨迹(左右摆动往复移动)，主要适用于对平面度要求较高的角尺侧面及圆弧测量面等的研磨。 螺旋形研磨运动轨迹，能获得较低的 表面粗糙度 和较高的平面度，主要适用于研磨圆片或圆柱形工件的端面。

研磨机研磨运动轨迹分析 百度文库

研磨是一种精整和光整加工方法 。 它是利用附着 和压嵌在研具表面上 的游离磨料磨粒 ，借助于研具与 工件 在一定 压力下 的相对运动 ，从工件表面上去除极 小的切屑 ，以使工件获得较 高的尺 寸精度和几何形状 精度及极低 的表面粗糙度值的表面。 在平面

研磨加工的运动特点及其运动轨迹 百度文库

研磨时，研具与工件之间的相对运动，称为研磨运动。 在研磨运动中，研具（或工件）上的某一点在工件（或研具）表面上所走过的路线，就是研磨运动的轨迹。 研磨时选用不同的运动轨迹能使工件表面各处都受到均匀的研削。 因此选择研磨运动轨迹应满足

平面研磨轨迹的研究 百度文库

研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受强制的机构控制，以便于保证工件的几何形状精度。

偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

2018年5月12日  摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著，而偏摆角速度（取到非特殊值时）对轨迹非均匀性影响很小。

机械科学与技术

建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究。

平面研磨的运动模型 百度学术

平面研磨的运动模型 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数对研磨运动轨迹形状的影响,根据研磨运动学分析,对研磨机设计提出了一些设想